SiCrystal GmbH und ROM Technik untersuchen Einspeisung von Prozessabwärme in das örtliche Fernwärmenetz

Nürnberg, 24.09.2026 – Die SiCrystal GmbH, Betreiberin einer der führenden Produktionsstätten für Siliziumkarbid-(SiC)-Halbleitersubstrate in Europa, hat gemeinsam mit der Rud. Otto Meyer Technik GmbH & Co. KG (ROM) eine umfassende Machbarkeitsstudie zur Nutzung industrieller Abwärme abgeschlossen. Ziel der vom Staatsministerium für Wirtschaft, Landesentwicklung und Energie geförderten Untersuchung war es, die technische und wirtschaftliche Umsetzbarkeit einer Einspeisung von bislang ungenutzter Prozessabwärme in das örtliche Fernwärmenetz zu bewerten.

Im Herstellungsprozess von Siliziumkarbid-Halbleitersubstraten entstehen bei Temperaturen von über 2.000 °C im Herstellungsprozess erhebliche Wärmemengen. Diese werden derzeit über Kühlkreisläufe abgeführt. Die nun vorliegende Studie zeigt, dass diese Energiequelle durch den Einsatz moderner Hochtemperatur-Wärmepumpen im Fernwärmenetz nutzbar gemacht werden könnte.

Die Untersuchung kommt zu dem Ergebnis, dass eine Einspeisung technisch realisierbar und - unter idealen Rahmenbedingungen - wirtschaftlich darstellbar wäre. Die bereitgestellte Wärmemenge könnte einen wertvollen Beitrag zur regionalen Wärmeversorgung und zur Dekarbonisierung kommunaler Infrastrukturen leisten.

Die Studie bestätigte das technische Potenzial auf Grundlage der bestehenden Produktionslinien für die Nutzung von Prozessabwärme und lieferte wertvolle Erkenntnisse für zukünftige Initiativen. Derzeit stellt die SiCrystal GmbH ihre Produktionslinien um. Die Nutzung der Prozessabwärme wird daher erst nach Abschluss dieser Arbeiten neu bewertet. Zudem unterstreicht die Studie das Potenzial für eine sektorübergreifende Zusammenarbeit zwischen Industrie und kommunaler Wärmeversorgung.

Auch künftig wird die SiCrystal GmbH Möglichkeiten prüfen, den Energieeinsatz in ihren Produktionsprozessen weiter zu optimieren und damit einen Beitrag zu einer nachhaltigen industriellen Wertschöpfung zu leisten.